2、打開化學(xué)吸附儀主機(jī)電源,打開操作軟件
3、在閥2接入氧氣,打開閥2,閥7打向閥2,閥8打向放空,處理氣流量計(jì)調(diào)至40-60mL/min,進(jìn)行樣品升溫氧化,氧化溫度及時(shí)間視具體樣品而定
4、在閥1接入氬氣,閥7打向閥1,設(shè)定1、2號(hào)質(zhì)量流量計(jì)流速為30mL/min,放下加熱爐,降溫吹掃至加熱爐降至室溫
5、將閥1切至氫氬混合氣室溫吹掃5-10min,閥8打向TCD
6、打開TCD,基線平穩(wěn)后升起加熱爐,開始程序升溫
7、峰圖出完基線平穩(wěn)后,關(guān)閉TCD,關(guān)閉溫控器,降下加熱爐,保存數(shù)據(jù)
8、將閥1切至氬氣吹掃5-10min
9、關(guān)閉氣體,關(guān)閉化學(xué)吸附儀主機(jī)電源,關(guān)閉操作軟件
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